浅谈集成电路布图设计的特点及申请流程
来源: | 作者:石云娟 | 发布时间: 2023-05-25 | 359 次浏览 | 分享到:

集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。通俗地说,它就是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几何图形排列和连接的布局设计。

 

集成电路布图设计作为人类智力劳动的成果,具有知识产权客体的许多共性特征,应当成为知识产权法保护的对象,其特点主要表现在以下方面:


(一)无形性

集成电路布图设计是指集成电路中各种元件的连接与排列,它本身是设计人员智慧的体现,是无形的。只有当这种设计固化到磁介质或掩膜上,才具有客观的表现形式,能够被人们感知、复制,从而得到法律的保护。


(二)创造性

集成电路布图设计具有创造性,是设计人自己创作的,有自己的独特之处。当今,要使每次的集成电路布图设计都达到显著的进步是不可能的,新的集成电路产品仅表现为集成度的提高。所以,已颁布集成电路保护法的国家,均不直接采纳专利法中的创造性和新颖性的标准,而是降低要求,以适应实际情况。


(三)可复制性

集成电路布图设计具有可复制性。对于集成电路成品,复制者只需打开芯片的外壳,利用高分辨率照相机,拍下顶层金属联接,再腐蚀掉这层金属,拍下下面那层半导体材料,即可获得该层的掩膜图。

 

由以上特点可以看出,集成电路布图设计是独立的知识产权客体,有着自己的特点。集成电路布图设计的无形性是知识产权客体的共性,创造性是专利权客体的特性,可复制性是著作权客体的一个必要特征,因此,传统的知识产权法律保护体系难以对布图设计进行保护。因而,很多国家基本上不引用著作权法或专利法来保护它,而是依据其特点,单独制订法规,将之作为独立的客体予以保护。

 

那么怎么向国家知识产权申请集成电路布图设计知识产权保护呢?

 

申请流程如下图所示:

 


1、申请资料:(1)集成电路布图设计申请表;(2)图样;(3)图样目录;(4)简要说明;(5)代理委托书;


2、申请官费:1000元;


3、审查周期:6个月左右(具体以国知局审查进度为准)


4、保护期限:10年(自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是无论是否登记或投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年,不再受条例保护。);


5、请注意存在以下不符合受理的情形:

(1)未提交布图设计登记申请表或者布图设计的复制件或者图样的,已投入商业利用而未提交集成电路样品的,或者提交的上述各项不一致的;

(2)外国申请人的所属国未与中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关国际条约;

(3)所涉及的布图设计属于条例第十二条规定不予保护的;(条例第十二条:布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。)

(4)所涉及的布图设计属于条例第十七条规定不予登记的;(条例第十七条:布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记。)

(5)申请文件未使用中文的;

(6)申请类别不明确或者难以确定其属于布图设计的;

(7)未按规定委托代理机构的;

(8)布图设计登记申请表填写不完整的。


以上,如果您有任何问题,请联系小嘉的专业团队吧,我们将竭诚为您服务!服务热线:029-81151062!


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